鈦基體與鍍層間電極界面上高過度電阻形成的原因,一般認為是氧作用的結(jié)果,陽極電流通過時溶液中含氧離子在電極表面放電,一部分氧以氣泡析出,另一部分氧則被吸附在電極表面,向鍍層與鈦基體的接觸界面擴散,并被吸附在鈦表面生成高阻的氧化物層。
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